SOLUTIONS / 應用場景總覽

12 個應用場景,
同一套工程導入流程

不同場景差在溫度、潔淨度、認證與介面條件,工程流程是同一套——從 Engineering Feasibility Review 到 FAI 與量產放行。AI 伺服器、半導體、儲能三個主場景有深度方案頁,其餘場景以相同流程逐案評估。

SCENARIOS
12 應用場景
DEEP DIVE
AI / SEMI / ESS 三主場
WORKFLOW
Drawing-to-PVT
12 應用場景
3 主場景深度方案
4 大材料 平台交叉支援
NPI → PVT 同一套導入流程
MAIN SECTORS

三個主場景,提供深度方案頁

AI / DC 01 / 03

AI 伺服器 / 資料中心

50–200kW GPU 機櫃的液冷管路總成:對齊 OCP ORv3 與 UQD 快接介面,依機櫃走線空間進行 Routing & DFM Review,整合 LIAKO 專利測漏結構與受控總成導入。

  • OCP ORv3 對齊
  • 24/7 機房可靠度
  • PG25 冷卻液相容
  • 機櫃內極限走線
SEMI 02 / 03

半導體製程設備

fab tool 的化學品輸送與溫控迴路:PFA / FEP 內管 Ra 0.08µm,零離子析出、抗強酸鹼、耐高溫切換,隨批附 ICP-MS 檢測報告。

  • Ra 0.08µm 內壁
  • 零離子析出
  • 抗強酸鹼
  • ICP-MS 隨批報告
ESS 03 / 03

儲能櫃 / 重型工業

戶外 BESS 與大電流工業設備的循環迴路:大口徑 EPDM 編織軟管搭配金屬歧管,UL 94 V-0 阻燃、抗 UV / 臭氧驗證、3D 預成型消除應力。

  • 大口徑循環迴路
  • UL 94 V-0 阻燃
  • 抗 UV / 臭氧
  • 3D 預成型應力消除
APPLICATION SCENARIOS

12 個應用場景

只要設備裡有液體在流動,就有管路總成的工程需求。標示 → 的場景有深度方案頁,其餘場景依同一套工程流程逐案評估。

  • AI 伺服器 / 資料中心
  • 半導體製程設備
  • 儲能櫃 / BESS
  • 電動車熱管理
  • HPC 超級電腦
  • 工業電腦
  • 醫療影像設備
  • 雷射加工
  • 充電樁
  • 太陽能 / 風電 inverter
  • 軌道交通
  • 國防 / 航太散熱
QUICK COMPARISON

三個主場景,快速比較

維度 AI / DC SEMI ESS
主管材EPDM 編織軟管PFA / FEP大口徑 EPDM
內徑範圍DN8 – DN50ID 0.5 – 25mmDN15 – DN150
工作溫度−20℃ ~ +85℃−40℃ ~ +260℃−40℃ ~ +120℃
工作壓力6 bar(爆破 24 bar)依場景客製6-10 bar
關鍵認證OCP ORv3 / UL 94 V-0FDA / USP Class VIUL 94 V-0 / TÜV 抗候
內壁潔淨度標準Ra 0.08µm標準
隨批報告壓力 / 氦檢ICP-MS / 粒徑UL / 抗候
月產能(估)10k–30k pcs5k–15k pcs3k–10k pcs(大口徑)
MOQ(標準)500 pcs100 pcs(潔淨)200 pcs
打樣交期3 日5-7 日(含洗淨)5-10 日(大口徑)

※ 產能與 MOQ 為標準品估算,客製品與大量訂單另議

ENGINEERING FEASIBILITY REVIEW

不確定屬於哪個場景?
提交圖紙 / 規格,由工程流程分流

若需求橫跨多個場景(例如同時有 AI 機櫃與 ESS 迴路),提供圖紙與流體條件,COOLUX 以同一套 Engineering Feasibility Review 整合評估,避免跨案重複溝通。